跳到主要內容
:::
    年度2006
    類別
    等級SCI
    論文名稱Characteristics of superjunction lateral-double-diffusion metal oxide semiconductor field effect transistor and degradation after electrical stress
    會議名稱Japanese Journal of Applied Physics
    會議開始時間2006-10-01
    會議結束時間2006-10-01
    全部作者Lin, J. L.*; Lin, M. J.; Lin, L. J
    著作人數3
    作者型態Corresponding Author

    建議最佳瀏覽 Microsoft IE 10 以上/Google Chrome/Mozilla Firefox 或相容W3C網頁標準之瀏覽器